首頁 >涂層設備 > 過濾磁控陰極弧源

刀具.jpg         過濾型磁控陰極弧源由磁控陰極和磁過濾彎管組成和金屬或金屬陶瓷類薄膜的制備。電弧靶采用圓柱的設計,全自動的陰極設計可實現靶面的自動削平的功能,配合離子束流的掃描模塊,可大幅提升有效薄膜沉積區域,達到工業化涂層生產的目的。
        過濾型磁控陰極弧源配備有專用的控制系統以實現高效穩定的工藝。

技術特點:


 提供ta-C涂層


 有效過濾離子束中的有害顆粒


 配備專有的電源和控制系統

典型應用:


 高精密模具


 耐磨擦自潤滑零部件



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